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半导体资料热处理
发布时间:2022-05-13 21:21:59 来源:环球体育app官方入口

  在特定的气氛、压力等条件下,依照必定的温度程序,对半导体单晶锭或晶片进行热处理的半导体资料制备过程中的一个重要工序。按冷却速度不同,可分为退火和淬火。经热处理的资料,因其间杂质、缺点状况和散布发生改动以及应力的开释,将引起电学、光学和力学功能改动。它是一种改动资料功能的有用和简洁的工艺办法。硅单晶在冷却过程中,在450℃邻近将构成硅氧复合体,具有施主性质,被称为热施主,它的存在将影响电阻率值。为取得实在的电阻... (本文共738字)阅览全文

  1导言 半导体器材制作工艺中有许多热处理的过程。如杂质激活、热扩散、金属合金化,氧化成长或堆积、CVD、介质膜细密化等。当器材规划几许特征标准缩小至0.35拌m、硅片直径从15omm增至Zoomm及以上时,传统的热处理炉不能彻底满意工艺的要求。在这种方式下,导致快速热处理RTP技能的鼓起和开展。为要减小结深,就必须严厉约束片子接收到的总热量一一热预算,为使掺杂剂得到最大程度的激活,而又坚持尖利的结散布特性,必须在时间短的热处理之后快速冷却。传统的热处理批量炉难以做到这一点,而RTP在这方面称心如意。信任跟着科学与技能的前进,RTP在半导体资料与器材工艺的热处理过程中将起首要的效果。2 MMST与RTP MMsT是“微电子制作科学与技能”的英文缩写。这是一个在美国国防部领导下耗资8600万美元的联合研讨开发方案。起于1988年n月,总算1993年。由德克萨斯仪器公司(TD详细担任施行。触及单位还有先进研讨规划组织(ARPA)和美国空... (本文共3页)阅览全文

  1导言自20世纪80年代以来,正电子埋没谱学(positron annihilation spectroscopy,PAS)技能已广泛用于半导体资料微观结构的研讨,该技能使用正电子的缺点抓获埋没特性反映局域特性(如埋没方位的电子密度、动量散布等信息)的特征[1,2],经过勘探正电子在资猜中与电子发生埋没所开释的γ光子带着的信息,获取正电子埋没方位的微观结构信息.正电子埋没谱学技能的特征剖析办法和高灵敏度,使其对样品的品种几乎没有约束,并且对原子标准的电负性缺点极为灵敏,资猜中缺点周围的电子动量和密度、化学环境等都能经过正电子在资料内的埋没信息反映出[3],从而得到资料的微观结构信息,因而成为资料科学微结构研讨中的有用表征技能.由制备工艺、热处理、离子注入和辐照等导致半导体资料内发生的各种缺点可以激烈地影响其物理和化学特性,因而,资料内缺点的表征对研讨半导体的功能、优化资料的制备工艺等具有指导意义.从微观上对固体内的晶体、缺点、电... (本文共14页)阅览全文

  1导言环境半导体资料β-FeSi2被认为是最有吸引力和开展前景的热电半导体和光电半导体资料之一。β-FeSi2具有正交结构(Cmca),其晶格常数为a=0.9863nm,b=0.7791nm,c=0.7833nm。β-FeSi2在室温具有一个直接禁带(0.85eV-0.89eV),且对红外光的吸收能力很强,理论的光电转化功率可达16%~23%,仅次于晶体硅,尤其是β-FeSi2所对应的特征区正是硅的全透明区,它也是光纤通信中的最重要波段,有利于同新式光电器材和光纤的结合[1,2]。因而,许多国家对β-FeSi2的研讨爱好日增,其间以日本为最。日本于1996年开端有关环境硅化合物半导体资料的研讨,以日本产总研的Yunosuke Makita教授、Saitama大学的K iyoshiM iyake教授为首,成立了环境半导体学会。现在,英国和日本在试验方面走在国际前沿,英国的Surrey大学的Kevin P.Homewood教授等人采... (本文共5页)阅览全文